详细信息
二维半导体单晶MOCVD mini
型号：Oxy MOCVD 50 mini
•手动上下片，程序控温
•1710 mm*1080 mm*2500 mm
•二维材料（如过渡金属硫化物、石墨烯）生长工艺探索、小批量样品制备
•晶圆尺寸：≤ 4英寸
•干泵
•极限真空度优于 1×10−3 Torr
•工作真空度 37.5~3.75 Torr
•加热温度RT1200℃（控温精度±5℃）
•温度均匀性：可定制≤±10℃（ 4英寸内）
•工艺气/载气：单路N₂ / Ar
•前驱体源：2路金属有机源，手动/半自动控制
•操作系统：Extremo D2.0
应用展示 
*10 mm*10 mm和2 英寸MoS₂ 
*2 英寸 MoS₂ 和 4 英寸MoS₂
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